再审查申请策略

 

单方再审查与多方再审查有各自的审查流程，申请人可视个案需求分别申请单方及/或多方再审查。如前所述，单方再审查的主要申请规范包括：（1）任何人均可申请；（2）申请人可匿名；（3）可申请多次；以及（4）申请后申请人即脱离审查程序（唯一参与机会是针对专利权人于申请日起二个月内向CRU提交之陈述书作回复）。多方再审查的主要申请规范包括：（1）限专利权人及其关系人以外之人申请；（2）申请人不可匿名且需揭露关系人；（3）申请人及其关系人于当前的多方再审查结束前，未经CRU主管同意，不得针对系争专利提出另一多方再审查；（4）申请人及其关系人就先前多方再审查过程中已提出或可得提出之可专利性信息，不得据以再次提出多方再审查；以及（5）申请后申请人仍能继续参与审查程序。无论是单方或多方再审查，再审查内容原则上均会公开。

 

由于单方再审查不限制同一申请人申请多次，部分申请人会策略性地提出多次单方再审查，这么做的好处包括：（1）于首次再审查的准备工作中，只需针对少数请求项之SNQ来准备，其余请求项之SNQ可留待后续申请之单方再审查中主张，如此即可缩短首次再审查的准备时间；（2）仅管单方再审查给予申请人之参与空间非常有限，但申请人可以根据在先之单方再审查的公开内容（包括官方通知与专利权人之回复意见）来准备在后之单方再审查，以达到类似多方再审查的效果。有专利权人认为多次提出单方再审查是一种骚扰及蓄意延宕审查之行为，且使申请人不公平地享受到类似多方再审查的好处但规避掉其限制。USPTO目前系要求SNQ必需是新的且非累积性的，来有限度地防止申请人针对同一专利大量申请单方再审查。此外，USPTO之专利法律行政办公室（Office of Patent Legal Administration, OPLA）也可将多个单方审查查予以并案处理，甚至专利权人也可以针对并案与否之决定以及骚扰行为向OPLA提出请愿，基于USPTO拥有完整之权限来决定是否并案，应可解决相关问题。

 

另有一种作法是：再审查申请人先申请单方再审查，之后再申请多方再审查。如此一来，申请人可以加快首次再审查准备工作（仅针对少数请求项来申请单方再审查），以取得较早之申请日来强化向法院要求暂停诉讼的正当性。类似地，USPTO也可将单方与多方再审查予以并案。